众所周知，由于我国在芯片范畴的起步较晚，所以一直以来芯片技能就成为了我国最大的短板。因此在意识到芯片技能受限于人的坏处后，我国在芯片范畴投入了很多的人力和物力，并且在芯片规划范畴获得了较为抱负的成果，但是在制造环节却仍旧是我国最大的短板。
已然深知芯片技能的重要性，那么用于制造芯片的光刻机的重要性相同也清楚明了，倘若在离开了光刻机，那么芯片技能也只依存在图纸上，无法成为实际。而目掌握着全球最顶尖7nm芯片制程光刻机技能的也只要荷兰ASML一家，至于美日两国，现在的水平也只能到达14nm。
尽管荷兰ASML公司所研制的光刻机处于世界一流等级，但需求知道的是，荷兰ASML公司研制的光刻机95%以上的零部件来自于多个国家。有碍于光刻机制造难度极大，所以荷兰ASML公司在出售光刻机之际，也要优先给予包含美国、韩国在内的科技公司，至于身为我国芯片巨子的中芯世界，也由于中美不确定联络的存在，被荷兰制止出售光刻机。
有必要留意一下的是，在我国巨大的电子科技类产品结构群下，芯片制造受限于人的坏处清楚明了，倘若在一旦碍于美国压力，包含台积电在内的芯片代工厂商与国内科技企业隔绝联络，那么必然会使得我国电子产业结构开展滞后，所带来的消极影响不可谓不大。那么已然我国芯片巨子进口7nm光刻机受阻，那么国产光刻机现状怎么？
据了解，现在国产光刻机水平仅限于第三等级，也便是低端范畴，且仅有上海微电子可以出产低端光刻机，至于制造流程与工艺根本也仅限于90nm，与现在最新的7nm比较还有着很大的距离。但在后续预备中，国产光刻机工艺范畴现已打破了28nm，但仍旧无法与荷兰ASML公司相抗衡。
不过在近期，有新闻媒体报道，由武汉光电国家研究中心的甘棕松团队，现在现已成功研制出9nm工艺的光刻机，据了解此次国产光刻机使用二束激光在自研的光刻机上打破了光束衍射极限的约束，刻出了最小9nm线宽的线段，由所以我国独有的技能，所以咱们在不受他国约束的情况下，也拥有着肯定的知识产权。
尽管9nm的光刻机技能与7nm比较还有着弱微的距离，但不可否认的是，这也是我国芯片开展史上的一个重要里程碑，即使现在无法逾越荷兰ASML，但最起码也超过了日本美国的水平。所以在功率极高的情况下，不扫除国产光刻机在7nm范畴获得打破的或许，对此我们怎么看？
